L'evaporazione con fascio di elettroni consiste nel posizionare il materiale della pellicola in un crogiolo di rame-raffreddato ad acqua e utilizzare direttamente il riscaldamento con fascio di elettroni per far vaporizzare gli atomi o le molecole del materiale della pellicola e fuoriuscire dalla superficie, quindi entrare nella superficie del substrato e condensare in una pellicola.
L'evaporazione del fascio di elettroni ha un'efficienza termica più elevata, una densità di corrente del fascio più elevata, una velocità di evaporazione più rapida e una maggiore purezza della pellicola rispetto all'evaporazione con riscaldamento a resistenza generale.
Applicazioni:
La macchina per rivestimento ottico può rivestire una varietà di sistemi di pellicola con un gran numero di strati, come passaggio a onda corta-, passaggio a onda lunga-, pellicola anti-riflesso, pellicola riflettente, pellicola filtrante, pellicola spettroscopica, pellicola passa-banda, pellicola dielettrica, pellicola altamente-riflettente, pellicola riflettente a colori, ecc.
Può ottenere un rivestimento di pellicola da 0 a 50 strati di pellicola e può anche soddisfare i requisiti di rivestimento di prodotti come vetro riflettente per autoveicoli, occhiali, lenti ottiche, tazze per luce fredda, ecc.
Può rivestire una varietà di sistemi di film con diverse fonti di evaporazione, cannoni elettronici, fonti di ioni e misuratori di spessore del film e può far evaporare metalli, ossidi, composti e altri materiali in film con punto di fusione elevato-fusione-.
Caratteristiche:
La macchina per rivestimento ottico è dotata di un misuratore di spessore della pellicola a cristalli di quarzo e il PLC e il sistema touch screen sono combinati per realizzare il controllo automatico dell'intero processo di lavoro, con eccellente efficienza di lavoro e ripetibilità della qualità del prodotto.
Adatto per l'utilizzo da parte dei produttori nel campo ottico e per i requisiti di produzione industriale su larga-scala.
Specifica:
| Macchina per rivestimento ottico | |||||||
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Modello |
SF-800 |
SF-1200 |
SF-1400 |
SF-1600 |
SFW-1000 |
SFW-1200 |
SFW-1600 |
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Dimensioni della camera |
Φ800×1000MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1600×1800MM |
Φ1000×1100MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1600×1800MM |
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Unità di vuoto |
KT500 Gruppo pompa a diffusione |
KT630 Gruppo pompa a diffusione |
Gruppo pompa a diffusione doppia KT630 |
Gruppo pompa a diffusione doppia KT630 |
KT500 Gruppo pompa a diffusione |
KT630 Gruppo pompa a diffusione |
Gruppo pompa a diffusione doppia KT630 |
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Sistema di rivestimento |
Sorgente di evaporazione con pistola elettronica, rivestimento di alimentazione ionica dedicata ausiliaria o sorgente di ioni Hall |
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Sistema di inflazione |
Controllore di pressione |
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Metodo di controllo |
Manuale o completamente automatico |
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Sistema di monitoraggio dello spessore del film |
Sistema di monitoraggio dello spessore del film di cristalli di quarzo |
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Velocità di pompaggio |
5×10-3Pa﹤15min |
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Vuoto definitivo |
3,0X10-4Pa |
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Osservazione |
I parametri dell'attrezzatura di cui sopra sono solo di riferimento e sono progettati e personalizzati in base alle effettive esigenze di processo dei clienti. |
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